ZESTRON DW 除蜡溶剂型清洗剂

产品基础定位介绍

ZESTRON® DW属于专业溶剂型清洗剂，产品定向解决光学零部件、电子元器件生产过程产生的蜡残留清洗难题。

该清洗剂可处理镜片表面、PCB线路板、功率模组、引线框架以及混合陶瓷构件表面附着蜡质污染物，同时兼顾低间隙元器件内部助焊剂残渣清除，是光学制造与功率电子封装工序通用清洗辅料。

核心溶解性能说明

产品具备优秀的疏水性溶解能力，溶解效果接近甲苯、二氯甲烷等传统清洗溶剂，可以充分溶解多种工艺保护蜡、抛光蜡，快速剥离牢固附着在工件表面的蜡层。

配方体系不含表面活性剂，工件清洗完成挥发干燥后，表面不会形成薄膜残留，能够稳定保障光学镜片透光性能以及电子元器件表面结合强度，避免后续绑定、镀膜工序出现不良。

清洗剂拥有较低的表面张力，液体能够渗透进入低底部间隙元器件狭小缝隙内部，清除常规清洗剂难以接触位置的污染物，提升高密度器件整体清洗均匀度。

工艺适配灵活优势

ZESTRON® DW支持蒸馏再生循环利用，十分适配搭载真空蒸馏、汽相漂洗功能的单腔汽相清洗设备，帮助企业持续降低清洗剂耗材采购成本。

产品工艺兼容性较强，首选应用于各类无水清洗产线，满足工件严禁接触水体的生产工况；同时配方经过优化，同样能够配套水洗漂洗工艺使用，工厂可根据现有产线硬件灵活调整清洗方案。

国内外标准规范说明

产品组分管控符合GB 38508-2020清洗剂挥发性有机化合物含量限值相关规定，清洗后的电子组件洁净指标能够匹配IPC电子组装清洁度相关行业规范。

应用在光学元件、功率半导体产品清洗工序时，清洗效果可满足行业零部件外观与可靠性验收标准，清洗数据能够支撑产品出厂质检工作。

主流适用应用场景

第一大类应用为光学行业镜片表面清洗，去除镜片抛光工序遗留抛光蜡；其次用于电子制造领域，包含PCB电路板除蜡、功率电子器件、引线框架分立器件除蜡作业。

适合混合陶瓷元件、IGBT功率模块、小型贴片元器件等高精密工件清洗，尤其适合元器件底部间隙狭小，普通清洗介质难以渗透的工况。

现场使用与储存注意事项

启用真空蒸馏再生工艺时，按照设备规范设置蒸馏温度，分离溶剂内部溶解的蜡质杂质，维持清洗剂持续稳定的清洗能力。

产线环境需要配备有效排风系统，远离明火、高温热源，仓储保持密封避光存放，减缓溶剂挥发。定期检测槽液污染程度，污染物累积超标及时进行蒸馏净化处理。

工件清洗完成后预留充足挥发时间，保障表面溶剂完全挥发；光学镜片清洗作业过程中，避免粉尘二次附着工件表面。

选型参考要点

工件表面存在大量抛光蜡、保护蜡需要清除，并且产线规划汽相清洗设备，优先选用ZESTRON® DW。

当产品基材遇水易腐蚀、不允许水洗工艺时，直接采用无水汽相清洗方案；若产线已有水洗工序，可调整工艺流程搭配水洗漂洗步骤。针对高低间隙混合元器件，该清洗剂相比普通溶剂清洗剂拥有更稳定的缝隙清洗效果。

品牌生产实力说明

ZESTRON长期专注电子制造精密清洗材料研发制造，电子工业清洗剂规格齐全，工艺方案成熟稳定，可适配半导体、光学元件、新能源工控各类精密零部件产线配套需求，供货稳定，技术参数完善，配套完整工艺应用指导方案。