国家标准规范说明
本系列聚氨酯抛光垫采用日本成熟发泡复合工艺生产,产品理化性能检测遵循DB34/T 1465-2015《聚氨酯抛光衬垫片通用技术条件》,管控聚氨酯基材密度、JIS-A硬度、耐磨寿命、尺寸公差;半导体晶圆抛光工况符合SJ/T 11636-2016《半导体硅片抛光垫通用规范》;硬度、密度检测执行GB/T 2411-2008《塑料和硬橡胶 使用硬度计测定压痕硬度(邵氏硬度)》,全批次成品完成激光测厚、硬度、研磨速率三重检测,可直接对标美国环球LP、杜邦IC、日本KSP进口抛光垫实现国产替代。
产品核心定位:进口高端抛光垫国产化直供替代
品牌CMPPAD源头工厂直供氧化铈填充、氧化铝填充、无填充三大系列聚氨酯抛光皮,依托日本成熟抛光垫发泡固结技术,配方、微孔结构、表面织构完全对标行业主流进口型号,可直接替代LP66、LP77、LP26、LP57、IC1010、KSP等进口抛光片,在同等抛光精度、耐磨寿命前提下,拥有国内外市场极具优势的采购价格,大幅降低光学、半导体产线耗材综合成本。
产品分为三类填充体系:氧化铈填充款主打光学玻璃、LCD面板镜面精抛;氧化铁填充款适配中端匀化抛光;无填充高硬度聚氨酯适配半导体基板粗抛,覆盖从粗抛到终抛全工序需求。
三大填充款标准理化参数表
| 填充主成份 | 粉体含量 | 成品密度(g/cm³) | JIS-A硬度 | 核心适用场景 |
| CeO₂氧化铈 | 23%~25% | 0.45 | 77~80 | 光学玻璃、3D盖板、LCD/FPD面板、蓝宝石基板精抛 |
| 无填充纯聚氨酯 | 无磨料填充 | 0.62 | 95 | 半导体陶瓷基板、硅片粗抛、高平整度匀化 |
| Fe₂O₃氧化铁 | 7.7% | 0.66 | 87 | 晶体、金属工件中端抛光,低成本批量预处理 |
全行业覆盖抛光应用领域与适配工件材质
核心抛光加工行业
精密光学元器件、平板玻璃/LCD/FPD显示面板、存储磁盘驱动器、半导体陶瓷基板、光学镜头玻璃、LED蓝宝石晶体基板、各类单晶晶体抛光加工。
可抛光工件材质清单
半导体硅片、砷化镓晶圆、熔融石英晶体、蓝宝石衬底、光学K9玻璃、微晶玻璃、不锈钢精密模具、各类金属反射镜、半导体陶瓷介质基板、宝石晶体。
灵活定制加工服务
1. 尺寸自由定制:支持任意长宽、厚度裁切,圆形、方形、异形板材均可生产; 2. 背胶可选:按需加工单面强力背胶,或无背胶光面抛光皮; 3. 开槽定制:支持方格槽、放射槽、螺旋槽、异形定位槽等专属开槽工艺,适配客户设备抛光液流通、排屑需求; 4. 硬度、填充比例微调:可根据客户产线抛光压力、工件材质微调磨料填充量与基材硬度。
企业生产实力与配套售前售后全流程服务
企业概况
作为抛光垫定制行业源头直供厂商,企业引进全套日本聚氨酯抛光垫发泡、复合、开槽生产线,拥有多年光学/半导体抛光耗材研发生产经验,专业为3C光学、车载显示、半导体晶圆、精密晶体加工客户提供高品质定制抛光垫与整套抛光工艺解决方案。
客户高频问题标准化解答
1. 耐用性:基材高温交联成型,微孔结构均匀耐磨,使用寿命可达进口LP系列同等水准,部分工况耐磨性能优于对标进口产品;
2. 定制周期:常规标准规格现货当日发货,特殊开槽、特殊填充配比定制周期3~7个工作日;
3. 起订量:支持小批量试样打样、大批量量产供货,灵活适配研发试样与全自动产线长期采购。
品质与售后保障
每批次抛光垫全部采用激光测厚设备检测,厚度公差稳定控制在±5μm,整张板材密度、硬度均匀无偏差;支持免费寄送样板上机实测抛光效果,专属技术顾问一对一根据客户工件、设备优化抛光工艺方案;批量采购支持客户专属包装定制,物流全程轨迹可溯源;生产、工艺售后问题24小时快速响应。
品牌经营宗旨
"CMPPAD"品牌始终秉持“诚信、务实、专业、创新”的企业宗旨,依托国产化规模化生产优势,为全球光学、半导体加工企业提供可替代进口的高性价比聚氨酯抛光耗材,长期与各行业客户稳定合作、共同发展,欢迎客户来电免费索取样板或莅临工厂实地考察指导。





东莞市欣帕得光电科技有限公司



浙公网安备33011002019511号