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2.5D/3D 曲面光学镜面氧化铈抛光垫
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  • 所属品牌:

  • CMPPAD

  • 所在地区:广东省 东莞市

    所属行业:

    产品材质:高温交联聚氨酯基材、99.9% 高纯氧化铈磨料(CeO₂>99.9%)

    产品型号:CP-OE 系列高纯度氧化铈抛光皮

    产品别名:氧化铈聚氨酯抛光皮、精密光学 CMP 抛光皮

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    东莞市欣帕得光电

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    核心信息
    产品名称: 2.5D/3D 曲面光学镜面氧化铈抛光垫
    产品别名: 氧化铈聚氨酯抛光皮、精密光学 CMP 抛光皮
    产品型号: CP-OE 系列高纯度氧化铈抛光皮
    所属行业:
    品牌: CMPPAD
    产地: 江苏苏州
    物理规格
    材质: 高温交联聚氨酯基材、99.9% 高纯氧化铈磨料(CeO₂>99.9%)
    压力(MPa): 适配抛光压力 0.05~0.3MPa
    温度(℃): 连续稳定作业≤60℃
    认证与标准
    执行标准: DB34/T 1465-2015、SJ/T 11636-2016、GB/T 2481-2021
    认证资质:
    RoHS 环保检测认证、光学磨料粒度均匀性检测认证、半导体抛光耗材精度检测认证

    国家标准规范说明

    本款氧化铈聚氨酯抛光皮生产检测遵循DB34/T 1465-2015《聚氨酯抛光衬垫片通用技术条件》地方标准,规范聚氨酯基材交联强度、耐磨寿命、尺寸公差;半导体晶圆抛光工况符合SJ/T 11636-2016《半导体硅片抛光垫通用规范》;内部氧化铈微粉磨料粒度、均匀度检测执行GB/T 2481-2021《固结磨具用磨料 粒度组成的检测和标记》,磨粒CV均匀度控制<3%,每批次硬度、研磨力波动极小,保障光学、半导体工件批量抛光品质稳定。

    产品核心抛光原理与综合优势

    抛光皮采用聚氨酯基材复合99.9%高纯氧化铈粉体一体固结成型,依靠Ce³⁺/Ce⁴⁺可变价离子实现氧化-络合-剥离化学机械双重抛光机制,先软化玻璃、石英表层硅氧化学键,再依靠纳米级均匀磨粒微切削剥离微观凸起,专门解决2.5D/3D曲面玻璃抛光卡料、边角塌边、雾度高、批量划痕等行业痛点,一次成型光学镜面,简化多道抛光工序。

    抛光效率与镜面精度优势

    对比传统氧化铝抛光皮,K9光学玻璃材料去除效率提升40%,可达1.55mg/min;抛光完成工件表面粗糙度稳定控制在Ra≤0.018μm,成品雾度Haze<0.1%,无肉眼可见细微划痕;激光织构表面1~2μm均匀凹坑,快速排走抛光碎屑,工件二次划伤不良品率降低60%,大幅提升光学产线良品率。

    基材耐磨长寿命,综合生产成本大幅下降

    聚氨酯基材经高温交联固化,形成硬而不脆的致密结构,材料显微硬度6GPa,断裂韧性较普通抛光垫提升1倍,180°反复弯折不开裂、不掉磨粉;可60℃恒温连续不间断作业,单次连续使用时长突破120小时,使用寿命是进口同类抛光皮1.3倍。HA80±5标准款可直接替代环球LP66进口抛光垫,采购成本降低30%;单条年产10万片光学玻璃产线,每年节约电费、人工、耗材等综合间接成本超500万元。

    批次性能一致性稳定,量产无品质波动

    氧化铈磨料采用喷雾干燥工艺解聚,D50粒径精准控制0.8~1.2μm,无硬团聚大颗粒杜绝工件深划痕;磨粒分布均匀性CV值<3%,全流程激光测厚管控,厚度公差±5μm,同批次、不同批次抛光垫硬度、研磨力偏差极小,避免因耗材性能差异导致工件粗糙度、透光率批量波动。

    全规格精准参数,分硬度匹配不同抛光工序

    参数类别具体规格工艺说明
    核心组成聚氨酯基材+99.9%高纯氧化铈(CeO₂>99.9%)纳米级无团聚磨料,适配超精密镜面加工
    邵氏硬度分级HA70±5、HA80±5、HA90±5HA90粗抛去刀纹;HA80中抛匀化;HA70精抛提亮镜面
    尺寸加工任意长宽、可定制曲面贴合凹槽适配平面、2.5D/3D曲面各类光学抛光机
    适配抛光液pH区间6.0~8.0中性、弱碱性不腐蚀基材与氧化铈磨料,兼容市面主流光学抛光液

    全行业覆盖应用场景与适配基材

    可抛光硬脆精密基材

    适配火石玻璃、熔融石英、蓝宝石晶体、半导体硅晶圆、ITO导电玻璃、TFT液晶玻璃、微晶玻璃等高精度硬脆材料抛光,核心面向3C消费电子、车载光学、半导体、精密光学仪器四大领域。

    工业化大批量量产场景

    3C行业2.5D/3D手机玻璃前后盖板、智能手表曲面玻璃批量抛光;汽车光学挡风玻璃划痕修复、车载HUD复合棱镜、后视镜加工;半导体硅片背表面损伤去除;光学工厂批量加工工业镜头、深紫外光刻透镜、红外窗口镜片。

    小众高端精细加工场景

    水晶工艺品镜面精抛、机械钟表超薄镜片、激光陀螺窗口、高功率激光器输出镜片、异形曲面光学元件小批量打样与量产,抛光后透光性、平面度、雾度全部满足高端光学产品出货标准。

    规范使用、清洁保养与存储方法

    抛光前预处理

    全新抛光皮上机前,使用去离子水轻柔冲洗表面浮尘、松散磨粉,避免抛光初期碎屑造成工件二次细微划伤。

    分硬度工艺参数匹配

    粗抛选用HA90/HA80规格,抛光压力控制0.1~0.3MPa,转速100~300r/min;最终镜面精抛选用HA70软质抛光皮,压力下调至0.05~0.1MPa,降低曲面工件边角过抛塌边风险。

    使用后清洁保养

    单次抛光完成立即用流动清水冲洗垫面残留抛光液、玻璃碎屑;顽固抛光残渣搭配中性温和清洁剂轻擦,严禁强酸、强碱性试剂浸泡腐蚀聚氨酯基材。

    长期存储条件

    存放于干燥通风避光库房,避开阳光直射、高温潮湿环境,防止聚氨酯基材提前老化、变硬、掉粉,延长仓储存放周期。

    售前售后全套品质保障服务

    1. 全流程品控:每批次产品激光测厚、硬度、研磨均匀度三重检测,厚度公差稳定±5μm,尺寸精准适配各类抛光治具;

    2. 免费试样:可免费寄送样板上机实测抛光效果,专属技术顾问一对一根据工件材质、设备、产线工况定制最优抛光方案;

    3. 批量定制:大批量采购支持客户专属包装印刷,全程物流信息溯源;售后工艺、耗材问题24小时快速响应,及时解决雾度超标、划痕、耗材损耗过快等生产难题。

    品牌生产实力说明

    品牌CMPPAD长期专注半导体、高端光学行业抛光耗材研发制造,CP-OE系列氧化铈聚氨酯抛光垫为核心主力产品,生产线配套无尘车间管控原材料纯度,氧化铈粉体严格筛选99.9%高纯原料,每批次成品开展耐磨寿命、表面粗糙度、去除效率全项检测。产品适配3C玻璃、车载光学、硅片多条国内主流自动化产线,支持小批量试样、大批量定制,供货周期稳定,配套完整抛光工艺技术指导,帮助光学加工企业降低抛光耗材综合使用成本,提升成品良率。企业秉持“诚信、务实、专业、创新”宗旨,长期与光学、半导体加工客户稳定合作。

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