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氧化铈抛光皮批量供应 光学元件抛光用
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  • 时间:2026-01-15 16:45    我要举报

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    氧化铈抛光皮

    氧化铈抛光皮,日本技术,专业生产,***国内国际优势价格:


    参数类别

    具体规格

    说明

    核心成分

    聚氨酯基材 + 高纯度氧化铈磨料(CeO₂含量>85%)

    磨粒粒径D50控制在0.8-1.4μm,避免划伤工件

    硬度选择

    HA70±5 / HA80±5 / HA90±5

    软硬度按需匹配,硬规格适用于粗抛去痕,软规格适用于精抛提亮

    尺寸与凹槽

    支持定制任意尺寸及凹槽设计

    适配各类抛光设备,精准贴合2.5D/3D曲面工件弧度

    适用pH范围

    6.0-8.0(中性至弱碱性)

    兼容常规抛光液,不易发生化学腐蚀变质

    全场景覆盖:从工业量产到精细加工

    核心适用材质:光学玻璃、手机盖板玻璃、石英晶体、半导体硅片、宝石、不锈钢、精密模具等。

    工业量产场景

    • 3C产品2.5D/3D玻璃前后盖板抛光 • 汽车玻璃、后视镜划痕修复 • 光学仪器镜片批量加工 • 半导体硅片背损伤去除

    精细加工场景

    • 水晶工艺品镜面抛光 • 钟表镜片精密理 • 激光陀螺窗口抛光 • 高功率激光器镜片加工

       

    品质保障与服务

    • 每批次产品均通过激光测厚检测,厚度公差控制在±5μm内,确保尺寸精准。

    • 支持免费拿样测试,提供专属技术顾问,根据您的具体工况优化抛光方案。

    • 批量采购享受定制化包装服务,全程物流溯源,售后问题24小时响应。


    欢迎来电免费索取样板或莅临指导,谢谢!

    1   8   3   1   8   3   1   8   3   0   6      陈   志   鹏


    "CMPPAD"本著:“诚信、务实、专业、创新”的企业宗旨,竭诚与广大客户共发展,共创美好未来。


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